株式会社シーボン(本社:東京都港区、代表取締役社長:崎山一弘、証券コード4926)は、心理状態によって肌状態が変化する事象について研究を進めています。今回、私たちの研究グループは、真皮線維芽細胞においてオキシトシン※1とコルチゾール※2がそれぞれの受容体を介し、ヒアルロン酸合成酵素であるHAS2の遺伝子発現量を制御したことを確認しました。
本研究成果の一部を、2025年11月3日~5日に開催された第98回日本生化学会大会において発表しましたので、ご報告いたします。
企業情報
株式会社シーボン(本社:東京都港区、代表取締役社長:崎山一弘、証券コード4926)は、心理状態によって肌状態が変化する事象について研究を進めています。今回、私たちの研究グループは、真皮線維芽細胞においてオキシトシン※1とコルチゾール※2がそれぞれの受容体を介し、ヒアルロン酸合成酵素であるHAS2の遺伝子発現量を制御したことを確認しました。
本研究成果の一部を、2025年11月3日~5日に開催された第98回日本生化学会大会において発表しましたので、ご報告いたします。